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臺師大解密二維材料 助半導體製程優化

臺師大跨國團隊發現超潔淨石墨烯中的量子臨界相對論電漿現象,有助半導體廠商晶片微小化製程優化,刊登國際期刊「科學」(Science)。  (臺師大提供)
臺師大跨國團隊發現超潔淨石墨烯中的量子臨界相對論電漿現象,有助半導體廠商晶片微小化製程優化,刊登國際期刊「科學」(Science)。 (臺師大提供)

記者黃朝琴/臺北報導

 臺灣師範大學光電所助理教授楊承山跨國研究團隊,首次成功發現超潔淨石墨烯中的量子臨界相對論電漿現象,有助二維材料等新穎材料的研發,讓半導體廠商設計晶片微小化製程優化,也可望使超快量子元件,兆赫波技術廣泛應用,改變人類生活,這項研究成果近期刊登國際頂尖期刊「科學」(Science)。 

 楊承山表示,團隊研發的兆赫波微小晶片波導光譜系統,未來也可應用在醫院、機場等物品或人體檢測,另外兆赫波有頻寬大特性,未來還能與光纖通訊結合,有助5G通訊發展。

 楊承山表示,台積電等半導體廠商推動微小化製程,透過二維材料等超薄材料研發,掌握電子在二維材料中運動方式,有助製程優化,團隊研發兆赫波微小晶片波導光譜系統,整合超潔淨石墨烯和兆赫波,成功觀測到電子的運動方式,這也是全球首次發現超潔淨石墨烯中的量子臨界相對論電漿現象。

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